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2018-04-09
核心提示: 電壓擊穿是指半導(dǎo)體PN結(jié)或絕緣介質(zhì)層在過電壓下的擊穿。在現(xiàn)代VLSI電路中,柵氧化層厚度已薄到納米級(jí),小到近百伏或幾十伏的靜電電壓,就足以使元器件失效或性能降低?! ∵^電壓的主要來源是摩擦電。當(dāng)一個(gè)人走進(jìn)房間或
電壓擊穿是指半導(dǎo)體PN結(jié)或絕緣介質(zhì)層在過電壓下的擊穿。在現(xiàn)代VLSI電路中,柵氧化層厚度已薄到納米級(jí),小到近百伏或幾十伏的靜電電壓,就足以使元器件失效或性能降低。
過電壓的主要來源是摩擦電。當(dāng)一個(gè)人走進(jìn)房間或僅僅把集成電路從塑料封袋材料中取出,就可能產(chǎn)生15000—20000V的電壓,遠(yuǎn)超過靜電破壞電壓。以MOS場(chǎng)效應(yīng)晶體管為例,金屬鋁柵、絕緣介質(zhì)層SIO2,半導(dǎo)體N溝道,這樣的結(jié)構(gòu)相當(dāng)于一個(gè)平板電容,電容量大約3PF。
當(dāng)鋁柵上出現(xiàn)靜電荷聚積時(shí),由V=Q/C知,即使微量電荷,也會(huì)使電壓升得很高。而絕緣介質(zhì)層SIO2的耐壓值僅在100V左右,當(dāng)靜電電壓達(dá)到或超過耐壓值,氧化膜就會(huì)被擊穿,造成針孔而使柵溝相通,損傷器件,造成隱患,或使器件失效。
功率擊穿是指半導(dǎo)體PN結(jié)、絕緣介質(zhì)層、連接導(dǎo)線等在過電流下的擊穿,它與靜電放電脈沖形狀、持續(xù)時(shí)間和能量積累有關(guān)。靜電放電電流流過集成電路內(nèi)部引起PN結(jié)的溫度升高。
有的可能燒毀內(nèi)部連接導(dǎo)線或造成內(nèi)部連接導(dǎo)線變窄,有的引起合金化或造成金屬的擴(kuò)散,最終造成器件永久性的破壞或嚴(yán)重老化。電老化是最頭痛的“軟擊穿”,它在當(dāng)時(shí)并不能被發(fā)現(xiàn),但在其后隨時(shí)可能出現(xiàn)失效,這時(shí)使用它的電子設(shè)備無疑會(huì)帶來極大的隱患。
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